VAT APC Controller(PM7)796-098290-002

mks真空計(jì)356004-YG-THORIBA VALVE全新原件0190-36237流量計(jì)

MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計(jì)AMAT氣體流量計(jì)0190-51152

Granville-Phillips 隔膜規(guī)390628-0-YE-T   390B6636

MKS 390628–0-YE MKS GRANVILLE-PHILLIPS gauge P/N：390628–0-YE-T  390628-0-YE-T 390B6636

mks360/370

AMAT AE PARAMOUNTRF generator0190-441-5

GRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module:

PN:390628-0-YE-T,

PN:390506-3-YE-T,

PN:390410-0-YE-P,

PN:390410-0-YE-T ,

PN:390417-0-YE-T,

PN:390611-2-YK-T。

The Replacement Gauge Assembly forGRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module

PN:390100-YH,

PN:390100-YG,

PN:390100-YE 。

390611–0-YG-T cfi35 數(shù)量五個(gè)

UFC-8165 流量計(jì)flowmeter

mks385620-4-GE-T-00049 真空計(jì)  356005-YE-T 傳感器

全新lam metal VODM 料號：796-055344-005MKS傳感器51B13TCA2BA990/51C13TCA2BA990

等離子注入機(jī)刻蝕VAT閥門08138-FA24-0001

TC6MVCR是AMAT 3310-01071、Teledyne Hastings DV-6-VCR和Brooks 8112105熱電偶儀表

AMAT真空計(jì)1350-00681美國MKS流量計(jì)的詳細(xì)信息MKS真空計(jì)355400-0-TD-T氣體流量控制器

HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計(jì)

MKS MODE：1179A00452CR1BV真空計(jì)  流量計(jì)美國 日本  聯(lián)系13510223365

● 壓力測量范圍在10ˉ5Torr 到大氣壓，大于普通的皮拉尼真空計(jì)2個(gè)測量等級
● 3個(gè)用于工藝控制的中繼點(diǎn)(選擇性)
● 超的設(shè)計(jì)
● 為工藝控制提供高的測量精度
● 模擬的輸出和數(shù)字通訊(RS232或RS485)提供了簡便的操作
● 可以抵御大氣沖擊和振動
● 可以方便地安裝于任何方向，沒有任何測量精度的損失
● 可以替代任何供應(yīng)商的真空計(jì)和設(shè)施的升級
● 符合歐洲CE，EMC標(biāo)志

MKS925真空計(jì)可以使用于半導(dǎo)體工業(yè)的分析和鍍膜工藝上的測量。
● 一般的真空壓力測量
● 前極管路和低真空的測量
● 氣體的充填測量和控制
● 質(zhì)譜儀器的控制
● 真空計(jì)的啟動
● 工藝系統(tǒng)的控制
● 控制系統(tǒng)的壓力

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司

sell  Exchang  Repair

Description注入機(jī) FILAMENT P.S電源

Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration information:

1.Configured for 8'' wafer

2.automatic wafer handling

3.Cl2 based etching process

4.3 process modules

5.Inspected by SPTS OEM engineer

6.Missing 1x Mag7 robot

7.Missing 1x VCE B controller

8.Missing 1x 24V DC Power supply

sell  Exchang  Repair Description注入機(jī) FILAMENT P.S電源

ETCH主要產(chǎn)品涉及金屬加工件chamber Linear/heater/slit door）；密封件；以及ESC（包括ESC 翻 新

延長了使用壽命

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計(jì)流量計(jì) 等進(jìn)口控制器

供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。

OB8F:

OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

. Certificate of manufactures conformity attached.

. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

. CTI Part # 8116143G001   Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

8200: 8032559G001

美國CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001

MKS354005-YD-T

Granville-PHillips真空計(jì)    275529-EU

1.型號：275529-EU

2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS

3.非實(shí)價(jià)，議價(jià)！英?？嫡婵沼?jì)MKS354005-YD-T離子對撞壓力計(jì)MKS

INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))

INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點(diǎn)繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎(chǔ)，并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。

INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。

MKS系列	部件號	顯示	單位	輸出	法蘭型	燈絲	INFICON部件號
355 微離子®	355400-0-碼	不	托	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355400-0-葉-T	不	托	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
355 微離子®	355400-0-YK-T	不	托	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355400-0-YF-T	不	托	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
355 微離子®	355400-0-YG-T	不	托	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355400-0-碼	不	毫巴	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355400-0-葉-T	不	毫巴	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355400-0-YK-T	不	毫巴	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355400-0-YF-T	不	毫巴	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355400-0-YG-T	不	毫巴	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355400-0-碼	不	帕斯卡	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355400-0-葉-T	不	帕斯卡	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
355 微離子®	355400-0-YK-T	不	帕斯卡	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355400-0-YF-T	不	帕斯卡	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
355 微離子®	355400-0-YG-T	不	帕斯卡	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355600-0-碼	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355600-0-葉-T	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355600-0-YK-T	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355600-0-YF-T	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355600-0-YG-T	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355600-0-碼	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355600-0-葉-T	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
355 微離子®	355600-0-YK-T	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355600-0-YF-T	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
355 微離子®	355600-0-YG-T	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355600-0-碼	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355600-0-葉-T	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
355 微離子®	355600-0-YK-T	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355600-0-YF-T	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
355 微離子®	355600-0-YG-T	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
355 微離子®	355410-0-碼	不	托	RS485	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
355 微離子®	355410-0-葉-T	不	托	RS485	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
355 微離子®	355410-0-YK-T	不	托	RS485	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
355 微離子®	355410-0-YF-T	不	托	RS485	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
355 微離子®	355410-0-YG-T	不	托	RS485	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	托	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	毫巴	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	發(fā)光二極管	帕斯卡	模擬	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	RS485	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	RS485	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	RS485	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	RS485	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	托	RS485	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	RS485	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	RS485	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	RS485	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	RS485	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	毫巴	RS485	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054
354 微離子®	354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	RS485	DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-050
354 微離子®	354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	RS485	DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-051
354 微離子®	354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	RS485	DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF	釕涂層銥	352-052
354 微離子®	354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	RS485	DN 16 CF-R	釕涂層銥	352-053
354 微離子®	354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）	不	帕斯卡	RS485	DN 40 CF-R	釕涂層銥	352-054

進(jìn)口CWFG00403 光刻膠過濾器 WGGB06S02濾芯

ASML是 Advanced Semiconductor Material  Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。

  ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾（Intel），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。

  ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機(jī)型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型，全部為沉浸式。